X線・EUV用 多層膜コーティング/オプティクス | ラドデバイス株式会社
エドモンド，EUVアト秒多層膜ミラーを発売 | OPTRONICS ONLINE オプトロニクスオンライン
ウェハ(mm)の上に描く下描き(nm)。Part 2 | サムスン半導体日本
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福田昭のセミコン業界最前線】開発が本格化する次世代EUV露光技術、3nm以降の微細化を主導 - PC Watch
EUV光源で平均出力60W、24時間連続稼働を達成：量産対応EUVスキャナー実現に大きく前進 - EE Times Japan
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解 説 EUV リソグラフィー用マスクの評価技術の開発
スライド 1
Ｊテック・Ｃが大幅高で３連騰、超高精度Ｘ線集光ミラーが次世代ＥＵＶ装置分野で思惑 | 個別株 - 株探ニュース
EUV露光機の製造は原子爆弾より難しい？ | 東日本日記
半導体 | 適用分野 | 明電ナノプロセス・イノベーション
図解】ASMLのEUV露光技術と半導体微細化に向けた今後の戦略 ～技術の基礎から収益構造まで詳しく解説|TechnoProducer株式会社
新考案のミラー光学系で EUV リソグラフィ用 マスクの高分解能観察に成功
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極端紫外用オプティクス | Edmund Optics
EUV編（2）】課題は光源の高出力化 | 日経クロステック（xTECH）
EUVミラー / 軟X線ミラー | X線光学部品 | NTT-AT 先端技術商品紹介サイト
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軟X線EUV用多層膜オプティクス | optiX fab | オプトサイエンス
EUV 露光技術の開発と放射光の役割
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EUVとは？】EUV露光技術で従来と変わる３つの事と今後の課題をわかりやすく解説
ASCII.jp：半導体プロセスまるわかり EUVは微細化の救世主となるか？ (1/3)
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